实验室拥有众多大型仪器及各类分析检测设备，研究所长期与各大企业、高校和科研院所保持合作伙伴关系，始终以科学研究为首任，以客户为中心，不断提高自身综合检测能力和水平，致力于成为全国科学材料研发领域服务平台。
铑作为铂族金属中的重要成员，因其卓越的耐腐蚀性、高催化活性和独特的光学特性，在汽车催化转化器、电子元器件、高温合金及珠宝制造领域具有不可替代的应用价值。铑纯度直接影响其物理化学性能表现，99.95%与99.99%的纯度差异就可能导致催化效率出现30%以上的波动，这使得铑纯度检测成为材料加工、贵金属交易和质量控制的关键环节。现代工业对铑原料的检测精度要求已普遍达到百万分率（ppm）级别，部分高端应用场景甚至需要十亿分率（ppb）级的杂质分析能力。
通过选择性溶解-沉淀反应测定铑含量，采用硫脲络合法消除铂族金属干扰，配合电位滴定仪可达到0.5%的相对误差。该方法适用于铑含量在95%-99.9%的原料快速检测，单次分析耗时约2小时，是传统冶炼厂最常用的质量控制手段。
利用6500K高温等离子体激发样品，通过特征谱线强度定量分析。配备中阶梯光栅光谱仪时，可同时检测Pt、Pd、Ir等14种杂质元素，检测限达0.001ppm，特别适用于99.99%以上高纯铑的杂质分析，测试精度比传统方法提升两个数量级。
采用Rh Kα线（20.21keV）进行无损检测，配备多层膜晶体分光器可将检测限优化至0.01wt%。最新微区XRF技术可实现50μm空间分辨率的表面成分分析，这对镀铑制品的涂层质量评估至关重要。
将样品与铅箔在1200℃熔融富集，通过同位素稀释质谱（ID-ICPMS）测定，可实现0.0001%级别的超痕量杂质检测。该方法是伦敦铂钯市场协会（LPPM）认证的标准方法，但需配备百万级洁净实验室环境。
使用铯离子束溅射表面，通过质量分辨率达30000的飞行时间分析器，可检测1E15 atoms/cm³级别的体相杂质。这种深度剖析技术对半导体用超高纯铑靶材的工艺控制具有决定性作用。
常规工业检测推荐采用ICP-OES与XRF组合方案，兼顾效率（10分钟/样）与精度（±0.05%）。贵金属交易所交割检验需执行火试金-IDMS标准流程。科研级材料表征则需结合GD-MS（辉光放电质谱）和TEM-EDS（透射电镜能谱）进行纳米级杂质定位分析。值得注意的是，ASTM B777-15标准明确规定医用级铑材必须包含氯离子（≤50ppm）和硫化物（≤20ppm）的特殊检测项。
随着纳米铑催化剂需求激增，当前检测技术正朝着原位分析方向发展。同步辐射X射线吸收谱（XAS）可在反应过程中实时监测铑的化学态变化，飞秒激光诱导击穿光谱（LIBS）则实现了0.1秒超快速在线检测。这些创新技术正在重新定义贵金属纯度控制的新标准。
